氧和氩均为非汇聚气体，在等离子体与晶体表面二氧化硅层上的活性原子和高能电子相互作用后，破坏了原来的硅氧键结构，将其转化为非桥键，使其表面上激活，使其与活性原子的电子融合，使其表面生成许多悬挂键。

同时，这些悬挂键以OH基团的形式存在，生成稳定的结构。经过浸渍机碱或无机碱的退火处理，表面的Si-OH键脱水汇聚生成硅氧键，添加了晶体表面的润湿性，更有益于晶体的融合。对材料的直接键合而言，亲水片表面比疏水晶片表面在自发键合方面更有优势。

随著电子信息产业的发展，电讯產品、电脑及元件、半导体、液晶及光电产品等对超精细工业生产清洗设备及产品附加值设施之比例持续升高，等离子表面活化技术已成为许多电子资讯行业的必要技术。工业生产技术要求的持续提高，等离子表面处理在中国将有更宽阔的发展空间。随着汽车工业的快速发展，许多外国制造商将目标转向中国市场，许多零部件制造商也留在中国，这些都对清洁提出了新的技术要求。可以说，等离子表面活化技术更适合汽车工业的发展。